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扩散设备

半导体专用扩散炉

80彩官网扩散炉是半导体器件及集成电路制造过程中用于对晶片进行扩散、氧化、退货和合金等工艺的热加工设备,主要由净化工作台、送料系统、加热炉、气源柜和控制系统组成。 海迪克8000/9000系列扩散炉可实现温度、推拉舟、气路的全自动控制,每根炉管控制器独立工作,有极强的抗干扰能力,可适用于各种工艺类型。


基础参数
工艺炉管 1-4
可加工晶片尺寸 2''-8''
可实现工艺 干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、磷扩散、硼扩散、退火、合金、玻璃钝化等
温度技术指标
恒温区 ≥800mm
测温范围 0.0~1500℃ (可使用热电偶S、R、B、K型)
显示精度 全量程0.1℃,24位数据采集精度
控温精度 800.0~1300.0℃ ≤±0.3℃;400.0~ 800.0℃ ≤±0.6℃;
测量控制回路 3回路、5回路
升降温速度 0.1~25.5℃/min
控制系统 HDC9000A
气体控制技术指标
控制精度 MFC控制输出精度:±0.5%,气体流量输出检测精度:±0.5(MFC流量显示以SLPM,SCCM为单位)
控制范围 每根炉管可同时控制8路气体, 检测8路模拟输入,16路电磁阀驱动,8路开关量输入
推拉舟技术指标
行程可调 ≤2600mm
定位精度 ≤±1.0mm’
舟速度 10-400mm/min
方式 斜滚推拉舟、悬臂推拉舟、炮筒推拉舟、软着陆推拉舟