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石墨烯设备

石墨烯设备

石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性,在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景。本设备适用于化学气相沉积法(CVD)石墨烯薄膜生长,性能可以满足各种工艺需求,能生长出具有高均匀性的大尺寸石墨烯薄膜。



基础参数
恒温区 ≥800mm
测温范围 0.0~2300.0℃(可使用热电偶S、R、B型等)
显示精度 全量程0.1℃,24位数据采集精度
工艺炉管 1-4
最高使用温度 1250℃
升降温速度 0.1~25.5℃/min
控制系统 HDC9000A

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